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CMP Polieren von Keramikblöcken Halbleiterverbrauchsmaterialien ISO9001
| Herkunftsort | Henan, China |
|---|---|
| Markenname | CAEC |
| Zertifizierung | ISO9001, ISO14001, OHSAS18001 |
| Min Bestellmenge | Einteiler |
| Preis | USD 1 for one piece |
| Verpackung Informationen | Standardpaket für den Export |
| Lieferzeit | 7 bis 10 Tage |
| Versorgungsmaterial-Fähigkeit | 50000 Stücke pro Monat |
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xProduktdetails
| Markieren | CMP Keramikblock,Verbrauchsmaterialien für Halbleiter aus Keramikblöcken,CMP-Polishing-Keramikblock |
||
|---|---|---|---|
Produkt-Beschreibung
Der Keramikblock besteht aus hochreinem und ultrafeinem Aluminiumoxidpulver durch Hochtemperaturhärtung.
Hauptmerkmale
Hohe Reinheit, weniger Verunreinigungen, hohe Härte, Verschleiß- und Korrosionsbeständigkeit.
Hohe Präzision, geringer thermischer Expansionskoeffizient und gute Genauigkeit, gute Verschleißfestigkeit und Korrosionsbeständigkeit.
Anwendung
Es wird hauptsächlich für das Ausdünnen, Hardpolerieren und CMP-Polerieren von LED-Substraten und Halbleiterwafern (Saphirwafer, SiC-Wafer, Siliziumwafer, Germaniumwafer, GaAs-Wafer, GaN-Wafer usw.) verwendet.
Spezifikation
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