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Etchfläche Halbleiterverbrauchsmaterialien Sintersilikonkarbidkeramik

  • Etching Tray Semiconductor Consumables Sintered Silicon Carbide Ceramic
Herkunftsort Henan, China
Markenname CAEC
Zertifizierung ISO9001, ISO14001, OHSAS18001
Min Bestellmenge Einteiler
Preis USD 1 for one piece
Verpackung Informationen Standardpaket für den Export
Lieferzeit 7 bis 10 Tage
Versorgungsmaterial-Fähigkeit 50000 Stücke pro Monat
Produktdetails
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Aufbereitungs- und Verarbeitungsanlagen

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Sintertes Keramik-Karbid aus Silizium

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Sintertes Siliziumkarbid-Etschbecken
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Produkt-Beschreibung

Aufbereitungs- und Verarbeitungsanlagen

 

Hauptmerkmale

Das Ätzteller besteht aus hochreiner sinterterter Siliziumkarbidkeramik ohne Druck. Es weist die Eigenschaften hoher Härte, Korrosionsbeständigkeit, Verschleißbeständigkeit, lange Lebensdauer,hohe Präzision und gute Ätzeruniformität der Wafer-Epitaxieschicht.

 

Anwendung

ICP-Ätzverfahren von epitaxialen Filmmaterialien ((GaN, SiO 2, usw.) für LED-Waferchips, Präzisionskeramikteile für Halbleiterdiffusion und MOCVD-Epitaxverfahren für Halbleiterwafer.

 

Spezifikation:

Durchmesserbereich: 50~500mm. Dicke: 3~20mm, kundenspezifische Spezifikationen sind erhältlich.

 

Umbauten:

Halbleiterverbrauchsmaterialien

Halbleiterschleifflanze

Verbrauchsmaterialien für Halbleiter aus Keramikblöcken