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Etchfläche Halbleiterverbrauchsmaterialien Sintersilikonkarbidkeramik
| Herkunftsort | Henan, China |
|---|---|
| Markenname | CAEC |
| Zertifizierung | ISO9001, ISO14001, OHSAS18001 |
| Min Bestellmenge | Einteiler |
| Preis | USD 1 for one piece |
| Verpackung Informationen | Standardpaket für den Export |
| Lieferzeit | 7 bis 10 Tage |
| Versorgungsmaterial-Fähigkeit | 50000 Stücke pro Monat |
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xProduktdetails
| Markieren | Aufbereitungs- und Verarbeitungsanlagen,Sintertes Keramik-Karbid aus Silizium,Sintertes Siliziumkarbid-Etschbecken |
||
|---|---|---|---|
Produkt-Beschreibung
Aufbereitungs- und Verarbeitungsanlagen
Hauptmerkmale
Das Ätzteller besteht aus hochreiner sinterterter Siliziumkarbidkeramik ohne Druck. Es weist die Eigenschaften hoher Härte, Korrosionsbeständigkeit, Verschleißbeständigkeit, lange Lebensdauer,hohe Präzision und gute Ätzeruniformität der Wafer-Epitaxieschicht.
Anwendung
ICP-Ätzverfahren von epitaxialen Filmmaterialien ((GaN, SiO 2, usw.) für LED-Waferchips, Präzisionskeramikteile für Halbleiterdiffusion und MOCVD-Epitaxverfahren für Halbleiterwafer.
Spezifikation:
Durchmesserbereich: 50~500mm. Dicke: 3~20mm, kundenspezifische Spezifikationen sind erhältlich.
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